厂家参考资料
AMIES / AMIES 设备
AMIES 化合物半导体步进光刻机
厂家资料所述的化合物半导体光刻开发平台，当前成熟度与配置需确认。
配置与供货状态以询价确认为准
请提供应用及目标技术指标，以便选型。
产品资料
参考技术指标。
以下为厂家资料中的开发阶段指标。资料计划于 2025 年下半年完成首台原型验收；实际验收完成情况及当前产品成熟度仍需确认。 厂家参考资料；供货范围与配置以询价确认为准。
| 分辨率 | 0.35 µm L/S |
|---|---|
| 机间套刻精度 | ≤40 nm |
| 基片尺寸 | 2 / 3 / 4 / 6 / 8 英寸 |
最终技术指标以报价确认为准。 咨询技术问题 ↗
