设备供应
MOC / 光刻设备
MOC CI-150 / CI-200 自动接触式光刻机
适用于 150 mm 和 200 mm 晶圆的自动对准与曝光。
配置与供货状态以询价确认为准
请提供应用及目标技术指标，以便选型。
产品资料
参考技术指标。
技术指标为参考信息，实际配置、性能与交期以报价确认为准。
| 晶圆尺寸 | 6 / 8 英寸 |
|---|---|
| 掩模版尺寸 | 7 / 9 英寸 |
| 波长 | 365 / 405 nm UV LED |
| 光源 | UV LED |
| 光照强度 | 40 mW/cm² |
| 光强均匀性 | >95% |
| 有效曝光范围 | 170 × 170 / 230 × 230 mm |
| 曝光模式 | 硬接触 / 软接触 / 接近式 / 真空接触 |
| 曝光分辨率 | 0.35 µm |
| 晶圆厚度 | 0.4–1.6 mm |
| 对准精度 | ≤±0.1 µm |
参考资料：2025-09。最终技术指标以报价确认为准。 咨询技术问题 ↗
