设备供应MOC GA100 手动接触式光刻机
MOC / 光刻设备

MOC GA100 手动接触式光刻机

采用 UV LED 光源,适用于小尺寸基底的手动接触式曝光。

≤Ø102 mm2 µm
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产品资料

参考技术指标。

技术指标为参考信息,实际配置、性能与交期以报价确认为准。

参考技术指标
曝光方式单面接触式曝光
曝光面积105 × 105 mm
光强不均匀性≤5%
光照强度0–25 mW/cm²;更高光强可定制
波长405 / 365 nm;默认 405 nm
分辨率2 µm
套刻精度2 µm
晶圆尺寸≤Ø102 mm
基底厚度≤5 mm
掩模版尺寸≤127 × 127 mm
外形尺寸750 × 700 × 800 mm

参考资料:2025-09。最终技术指标以报价确认为准。 咨询技术问题 ↗

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